??清洗劑(ji)的類(lei)型有(you)哪些(xie)??

??⑴水基型

??水(shui)(shui)(shui)是重(zhong)要的(de)(de)清(qing)(qing)洗(xi)劑(ji)(ji),有(you)著其(qi)它任何(he)清(qing)(qing)洗(xi)劑(ji)(ji)無法替代的(de)(de)作用(yong)和(he)(he)地位。普通的(de)(de)水(shui)(shui)(shui)很(hen)容易從自(zi)然(ran)界中得到,水(shui)(shui)(shui)有(you)很(hen)強的(de)(de)溶解力(li)(li)和(he)(he)分散(san)力(li)(li)。但是水(shui)(shui)(shui)的(de)(de)表(biao)面張力(li)(li)大(da)(da),在使用(yong)中需(xu)要添加表(biao)面活性(xing)劑(ji)(ji)，以減小表(biao)面張力(li)(li),增加表(biao)面濕潤性(xing)。在一(yi)般工(gong)(gong)業(ye)清(qing)(qing)洗(xi)中,酸,堿和(he)(he)水(shui)(shui)(shui)的(de)(de)配合比較常見(jian),有(you)些金屬用(yong)水(shui)(shui)(shui)洗(xi)要加入(ru)防銹劑(ji)(ji);在精(jing)密(mi)和(he)(he)超精(jing)密(mi)工(gong)(gong)業(ye)清(qing)(qing)洗(xi)中。大(da)(da)部分要求(qiu)(qiu)將水(shui)(shui)(shui)制成純凈(jing)水(shui)(shui)(shui)。通常以電阻率來衡量水(shui)(shui)(shui)純度。半導體工(gong)(gong)業(ye)要求(qiu)(qiu)在18MΩ/cm以上。而TN型液晶生產10MΩ/cm就可以了,還有(you)一(yi)些行業(ye)對細菌含量要求(qiu)(qiu)很(hen)嚴(yan)。

??⑵半水基型

??半水(shui)(shui)基型(xing)清(qing)洗(xi)(xi)(xi)劑也叫(jiao)準水(shui)(shui)基型(xing)清(qing)洗(xi)(xi)(xi)劑,是(shi)由(you)高(gao)沸點溶劑及活性劑等(deng)組(zu)成(cheng)如醇(chun)類(lei),有(you)機烴類(lei)等(deng)。通(tong)常(chang)含(han)有(you)百(bai)分之五一百(bai)分之二(er)十的水(shui)(shui)分,一般(ban)不易燃(ran)燒,但加溫清(qing)洗(xi)(xi)(xi)時水(shui)(shui)含(han)量控制不當,可(ke)能產(chan)生燃(ran)燒現象。半水(shui)(shui)基型(xing)清(qing)洗(xi)(xi)(xi)與(yu)溶劑洗(xi)(xi)(xi)有(you)一些不同,它(ta)的清(qing)洗(xi)(xi)(xi)原(yuan)理(li)是(shi)剝離去除(chu),而(er)不是(shi)溶解。為(wei)了(le)防止(zhi)已經(jing)剝落的油污再附到(dao)被清(qing)洗(xi)(xi)(xi)物上,清(qing)洗(xi)(xi)(xi)液(ye)要連(lian)續地(di)循環(huan),并增加油水(shui)(shui)分離器(qi)。半水(shui)(shui)洗(xi)(xi)(xi)通(tong)常(chang)清(qing)洗(xi)(xi)(xi)效(xiao)果很好,但運行成(cheng)本較高(gao),廢(fei)液(ye)不能再生回收,重復使用,含(han)COD(化學耗氧量)較高(gao),需要進行廢(fei)水(shui)(shui)處理(li)。

??⑶溶劑型

??溶劑型(xing)清(qing)洗劑是指不溶于水的有機溶劑。精密工業清(qing)洗使用的非水系清(qing)洗劑主要是烴(jing)類(lei)(石油(you)類(lei))、氯代(dai)(dai)烴(jing)、氟代(dai)(dai)烴(jing)、溴代(dai)(dai)烴(jing)、醇類(lei)、有機硅(gui)油(you)、萜烯等(deng)有機溶劑。